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          臥式低溫水浴鍋CHDCW-1015高精度循環一體機

          簡要描述:臥式低溫水浴鍋CHDCW-1015高精度循環一體機,臥式低溫恒溫槽是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源, 可在機內水槽進行恒溫實驗,或通過軟管與其他設備相連,作為恒溫源配套使用。適用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫藥衛生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門,高等院校。

          • 廠商性質:生產廠家
          • 更新時間:2023-11-11
          • 訪  問  量:1643

          詳細介紹

          品牌其他品牌溫度穩定性0.5℃
          溫度范圍-10-100℃水浴槽容積15L
          溫控功能制冷/加熱型價格區間5千-1萬
          循環功能內外循環儀器種類恒溫浴槽
          產地類別國產應用領域環保,化工,生物產業,制藥/生物制藥,綜合

          臥式低溫水浴鍋CHDCW-1015高精度循環一體機主要特征:

          1、低溫恒溫槽采用全封閉進口壓縮機制冷,制冷系統具有過熱、過電流多重保護裝置。

          2、具有內外循環作用,循環泵可以把槽內被恒溫液體外引,建立第二恒溫場。

          3、采用進口全自動PID溫度設定程序及進口溫度傳感器,控溫精度高。溫度數字顯示。
          4、大屏幕液晶中英文對照顯示,數據清晰,外形美觀,個性化界面讓工業控制不再單調。
          5、低溫恒溫槽機身外殼采用鏡面防老化靜電噴漆技術,內膽、臺面均為不銹鋼,清潔衛生,美觀耐腐蝕。

          6、槽內冷液可外引,冷卻機外實驗容器,也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗。


          技術參數:

          型號

          溫度范圍(℃)

          溫度波動度(℃)

          工作槽容積(mm3)

          工作槽開口(mm2)

          槽深度(mm)

          循環泵流量(L/min)

          排水

          CHDCW-0506

          -5~100

          0.02~0.05

          250×200×150

          180×160

          150

          6

          CHDCW-0510

          -5~100

          0.02~0.05

          250×200×200

          180×160

          200

          6

          CHDCW-1006

          -10~100

          0.02~0.05

          250×200×150

          180×160

          150

          6

          CHDCW-1008

          -10~100

          0.02~0.05

          280×250×140

          235×180

          140

          6

          CHDCW-1010

          -10~100

          0.02~0.05

          250×200×200

          180×160

          200

          6

          CHDCW-1015

          -10~100

          0.02~0.05

          280×250×220

          235×180

          220

          6

          CHDCW-2006

          -20~100

          0.02~0.05

          250×200×150

          180×160

          150

          6

          CHDCW-2008

          -20~100

          0.02~0.05

          280×250×140

          235×180

          140

          6

          CHDCW-2010

          -20~100

          0.02~0.05

          250×200×200

          180×160

          200

          6

          CHDCW-2015

          -20~100

          0.02~0.05

          280×250×220

          235×180

          200

          6

          CHDCW-3006

          -30~100

          0.02~0.05

          250×200×150

          180×160

          150

          6

          CHDCW-3008

          -30~100

          0.02~0.05

          280×250×140

          235×180

          140

          6

          CHDCW-3010

          -30~100

          0.02~0.05

          250×200×200

          180×140

          200

          6

          CHDCW-3506

          -35~100

          0.02~0.05

          250×200×150

          180×140

          150

          6

          CHDCW-3510

          -35~100

          0.02~0.05

          250×200×200

          180×140

          200

          6

          CHDCW-4006

          -40~100

          0.02~0.05

          250×200×150

          180×140

          150

          6


          ●以下為臥式低溫恒溫槽可選配功能
          1.可選配通訊接口與PC機同步操作。
          2.可選配內置1~30段的程序進行溫度控制,自動程序控溫,實時顯示設定溫度及時間程序 運行狀態
          3.可選配外接溫度傳感器功能,實現內外溫度設定,可監測和控制外循環時外部裝置體系的溫度。
          4.可選配重新布局槽體內置的冷卻盤管,對反應槽的放熱反應進行控制。
          5.可選配設計安裝磁力攪拌功能,無需外接立式攪拌機,操作簡單方便,可以實現全封閉恒溫下的攪拌反應。
          6.腳輪可以根據客戶要求加裝,拆卸方便
          7.接受各種尺寸規格或者特殊要求產品的定做


          臥式低溫水浴鍋CHDCW-1015高精度循環一體機


          低溫恒溫槽部件及內部運行原理

          1、低溫恒溫槽部件:壓縮機、冷凝器、蒸發器、 風機(內、外)循環水泵、不銹鋼內膽、加熱管、智能溫控表。

          2、低溫槽內部運行原理:壓縮機運轉后經吸氣-壓縮-排氣-冷凝-節流-再低溫蒸發吸熱汽化.使的水溫降至溫控表所設定的溫度,如溫控表設定溫度高于常溫。溫控表內接觸器自動工作,給予加熱管電流信號, 加熱管開始工作,在低溫恒溫槽工作時。可利用整機的進口和出口做機內水源內循環或者外循環,也可將機內水源外引。在低溫恒溫槽體外做第二恒溫場。



          高精度低溫恒溫槽的內外循環作用及應用范圍

          高精度低溫恒溫槽,又稱高精度低溫恒溫浴槽,是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源,兼具小型冷水機的功能。廣泛應用于石油、化工、冶金、醫藥、生化、物性,測試及化學分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質檢部門。根據槽開口尺寸的不同,可在浴槽內進行恒溫實驗,亦可通過軟管與其他設備相連接,與恒溫源配套使用。

          外循環:通過泵的循環能力,利用出水口將保溫軟管與外部設備連接,形成封閉回路,流回設備進水口,是將槽內恒溫介質外引,建立外部恒溫場。內循環:通過泵對槽內液體介質的循環吞吐,增加槽內溫度的均勻性,減少溫度波動。 循環水恒溫的應用領域: 生化領域:旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器(合成器)等。材料領域:電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統、原子沉積系統等。


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